yy.vip易游-宇辉光学申请光学扩散板微结构缺陷检测方法专利显著降低误报率

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　　国家知识产权局信息显示，深圳市宇辉光学科技有限公司申请一项名为“一种光学扩散板微结构缺陷检测方法、电子设备及存储介质”的专利，公开号CN121595563A，申请日期为2026年1月。

　　专利摘要显示，本申请公开了一种光学扩散板微结构缺陷检测方法、电子设备及存储介质。该方法包括：采集同一扩散板区域在至少两种不同光照角度下的图像并进行弹性配准，以消除因板材运动导致的图像错位；从配准后的图像中解耦分离出在所有光照下均稳定存在的物理缺陷特征与随光照变化的光影干扰特征；对物理缺陷特征进行增强与动态上采样处理，并以低置信度阈值生成疑似缺陷候选区域集合；针对每一候选区域，利用其外围纹理，通过生成式模型重构该区域无缺陷时的虚拟参考图像，通过比对残差判定真伪并输出置信度；根据所述置信度是否超过报警阈值来确定最终报警结果。本申请能够有效区分因机械微颤和微结构反光造成的伪影与真实物理缺陷，显著降低误报率。

　　天眼查资料显示，深圳市宇辉光学科技有限公司，成立于2020年，位于深圳市，是一家以从事橡胶和塑料制品业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市宇辉光学科技有限公司参与招投标项目2次，财产线条，此外企业还拥有行政许可5个。

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